Illumina

弊社のシーケンス装置のうち、流路構造を内蔵しているMiSeq、NextSeq 500/550、MiniSeqおよびNovaSeqは、定期的なポストランウォッシュまたはメンテナンスウォッシュを必要とします(各装置の推奨のウォッシュ方法については、それぞれの装置のユーザーガイドをご参照ください)。

この定期的なウォッシュは、装置付属のウォッシュカートリッジを使用して実施しますが、湿気の多い時期には、ウォッシュカートリッジのウェル内にカビが発生してしまうことがあります。

  1. 装置からウォッシュカートリッジを取り出したのち、各ウェルに残っているウォッシュ溶液を廃棄します(使用済みのウォッシュ溶液を再利用しないでください)。
  2. ウォッシュカートリッジのそれぞれのウェルをラボグレードの水で洗浄してください。
  3. ウォッシュカートリッジを裏返して、軽く風乾してください。
  4. ウォッシュカートリッジのウェルを確認し、カビが発生していないかを確認してください。

図1: ウォッシュカートリッジのウェルに発生したカビの例

ウォッシュカートリッジにカビが発生している場合、下記の手順をご実施ください。
  1. 1~3%のラボグレードの次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用意し、カビの確認されたウェルに加えてください。
  2. 清潔なブラシなどでカビを除いてください。
  3. 重要:蒸留水もしくはラボグレードの水でウェルをしっかりと洗浄してください(次亜塩素酸ナトリウムがウェルに残っていると次回のランのクラスター形成に影響を及ぼす可能性があります)。
  4. ウォッシュカートリッジを裏返して、軽く風乾してください。
  5. カビが残っている場合は、1~4の操作を繰り返して下さい。
  6. 上記の操作を実施してもカビが除去できない場合は、techsupport@illumina.comにお問い合わせください。
 
ライブラリー調製キットをご使用いただき、予想している結果とはならなかったなど何かトラブルや気にかかることなどございましたら、テクニカルサポートまでお気軽にご相談ください。
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